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MOS集成电路工艺与制造技术 简介
本书介绍了硅集成电路制造技术中的基础工艺，内容包括硅衬底与清洗、氧化、扩散、离子注人、外延、化学气相淀积、光刻与腐蚀/刻蚀、金属化与多层布线、表面钝化以及工艺集成制造技术等。
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