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半导体制造基础 简介
本书在简要介绍半导体制作流程的基础上, 着力从理论和实践理论两个方面对晶体生长, 硅氧化, 光刻, 刻蚀, 扩散, 离子注入和薄膜淀积等主要制备步骤进行详细讨论。并列题名: Fundamentals of semicoductor fabrication eng
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