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光学光刻和极紫外光刻

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光学光刻和极紫外光刻

作者:爱德曼 (德) (Erdmann, Andreas)
出版社:上海科学技术出版社
ISBN:978-7-5478-5720-5
出版年:2023

10(已有人评分)

光学光刻和极紫外光刻 简介
本书在阐述了光学光刻技术的基本内容后,还专门开辟章节,介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点,揭示了极紫外光刻的技术奥秘。并列题名:Optical and EUV lithography: a modeling perspective eng

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