本书分为两篇。第一篇从真空镀膜技术基础、物理气相沉积(PVD)薄膜生长成膜的原理出发,详细介绍了蒸发镀、溅射沉积和离子镀膜等各种PVD技术,对PVD技术的发展进行了总结和展望,最后对PVD技术在沉积硬质防护、减磨润滑、耐蚀防护和光电磁功能等方面的应用进行了归纳总结。第二篇从化学气相沉积(CVD)的技术基础出发,详细介绍了热CVD、等离子增强CVD(PECVD)、反应活化扩散CVD和其他新型CVD技术的技术原理和特征,对CVD技术沉积各种金属和陶瓷涂层,在硬质防护、高温防护和功能化方面的应用进行了归纳总结。