全书共分十一章。第一章概述了真空技术, 第二至第八章分别介绍了蒸发、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相外延、湿化学合成等各种半导体薄膜的沉积技术, 第九章介绍了半导体超晶格、量子阱的基本概念和理论, 第十章介绍了典型薄膜半导体器件的制备技术。本书文字叙述上力求做到深入浅出, 内容上深度和宽度相结合, 理论和实践相结合, 以半导体薄膜技术为重点, 结合半导体材料和器件的性能介绍, 同时还介绍了半导体薄膜技术与物理领域的新概念、新进展、新成果和新技术。并列题名：Physics and technology of semiconductor thin films eng